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    等離子噴涂設備介紹

    編輯:admin 發布日期:2019-06-03 00:37

    等離子噴涂設備介紹

    等離子噴涂設備主要包括電源、噴槍、送粉器、引弧裝置、供氣系統、冷卻水系統及電器控制系統組成。等離子噴涂的電源均為直流電源.其外特性、動特性

    及供電參數都應滿足噴槍產生的等離子弧的要求。

    目前采用的整流電源主要為飽和電抗器式或硅整流電源、晶閘管型電源。等離子噴涂的引弧裝置主要為了在起弧時在電極之間產生高頻電樂,擊穿電極間的工作介質,產生電火花引弧。

    常見的普通等離子噴涂設備有裝甲兵工程學院生產的78W2系統,上海瑞發噴涂機械有限公司生產的DH一1080/DH一2080系統、蘇爾壽美科生產7M、

    gM系統;超聲速等離子設備有裝甲兵工程學院生產的HEPJel一100系統,美國先進技術公司(P】1)的,ooHE高速等離子噴涂系統。

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